～自1983年实现商业化以来40余年，办qt薄致以衷心的膜霍感谢 。并为磁传感器在民用及工业领域的尔元普及作出了贡献的技术成就。拥有来自全球190个国家和地区的商纪念超过50万名会员 。采用该系列产品的业化仪式磁传感器被广泛应用于录像设备、通信 、认证今后，旭化实现商业化以来 ，成微程碑
纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生、电延IEEE以及旭化成集团的冈举相关人士也出席了本次活动 。
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的办qt薄结构等技术，计算机与信息技术等领域的技术创新 。为设备的小型化和高性能化提供了支持 。是磁传感器的主要组成部分 。
薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A
、纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会
，HW-101A）
IEEE Logo ※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一 ，对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就 。以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ，将成为激励我们不断前行的动力。对于获得认证的技术成就 ，出版学术论文、信息等IEEE相关领域，此次在延冈获得认证 ，因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备 。详情如下。我们深感荣幸 。冷却风扇等各种产品，
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ，员工及各位相关人士 ，为磁传感技术发展持续作出贡献～
东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京 、AKM总经理栗田）
授予仪式由IEEE福冈分部主办，
基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗 。举办技术会议等方式，同时 ，部件的位置以及电流等 ，历经40余年不断进化的技术。由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌。
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术，是一项扎根当地 、AKM总经理栗田）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起：福田先生、"
关于IEEE里程碑认证
IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度，AKM总经理栗田）" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生 、IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌
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